主要规格及技术指标 ：     

最高放大倍率：200万倍；   分辨率：0.7nm @15kV； 1.2nm @1kV

加速电压：0.02-30kV；           样品仓尺寸：330mm（D），270mm（H）

五轴电动优中心样品台：X/Y = 130 mm；Z = 50 mm；T = -4°- 70º；R = 360º continuous

最大存储分辨率：32k x 24k

主要功能及特色：

高分辨扫描电镜系统，采用专利的Gemini镜筒设计，具有卓越的高低电压分辨能力；磁透镜与静电透镜的复合透镜设计，保证样品室内无漏磁；高束流稳定性。

配置的①In-lens，②ET-SE，③)aBSD，④)aSTEM等 四个探测器可完成对试样表面形貌的高分辨观察；

配备的EDS对样品进行定性和半定量分析，无损样品，可在观察样品表面形貌的同时全面了解样品成分、微观组织结构与性能的关系；

配备的EBSD可对样品进行微织构分析、微取向和晶粒取向分布测量，可以将晶体结构及取向信息与微观组织形貌相对应。 

应用范围：

       不仅在生物学、医学、农学、食品科学、物理学、化学及环境科学与工程、材料、冶金和电子等众多领域应用广泛，在陶瓷、合金和地质等学科领域亦有十分广阔的应用前景。 

样本检测注意事项 ：

普通形貌观察送检样品为干燥的块状、片状、纤维状及粉末状的固体。应有一定的化学、物理稳定性，在真空中及电子束轰击下不会挥发或变形；无磁性、放射性和腐蚀性。

一般情况下 , 形貌观察样品体积不宜太大（≤ 5x5x2mm较适合）。

          EBSD样品要求满足：无残余应力，表面平整，清洁，适合的形状和尺寸和良好的导电性等五个条件。